Systemy oczyszczania ultra wysokiej czystości SS316L Wysokiej wydajności dla chemikaliów elektronicznych

Ten dedykowany system oczyszczania został zaprojektowany z myślą o rygorystycznych wymaganiach produkcji chemii wysokowartościowej i elektroniki, gdzie zanieczyszczenie metalami śladowymi i liczba cząstek nie podlegają negocjacjom. Łącząc wysokowydajną wyparkę z wycieraczką filmową z całkowicie zamkniętą pętlą zdolną do przepuszczania gazu obojętnego, system ten pozwala na ciągłe, niskotemperaturowe usuwanie nieprzereagowanych monomerów, wysokowrzących rozpuszczalników i ciał barwnych ze specjalnych chemikaliów. Zaprojektowany do oczyszczania produktów, od monomerów utwardzanych promieniami UV i akrylanów klasy optycznej po odzysk NMP w produkcji akumulatorów litowych, zapewnia wyjątkową skuteczność separacji bez wrzenia basenu i zanieczyszczania. System jest zbudowany z elektropolerowanego SS316L lub zwilżonego Hastelloyu, co zapewnia czystość jonową i jest ostatecznym narzędziem dla producentów substancji chemicznych, którzy chcą unowocześnić chemikalia klasy technicznej do wymagających poziomów czystości części na miliard wymaganych w zastosowaniach półprzewodników i zaawansowanych materiałów.

Produkcja chemikaliów o ultrawysokiej czystości do elektroniki, zaawansowanej optyki lub polimerów medycznych stawia ekstremalne wymagania w zakresie oczyszczania. Standardowe kolumny do destylacji wsadowej wprowadzają zanieczyszczenie jonami metali w wyniku długotrwałego kontaktu z gorącą stalą nierdzewną i przepływów o niskiej prędkości, które umożliwiają korozję i ługowanie. Ponadto statyczny zbiornik cieczy w partii nadal katalizuje tworzenie się spolimeryzowanych „popcornu” i ciałek żelowych, które oddzielają się od produktu w postaci widocznych cząstek i plamek. Dla producenta próbującego wyprodukować klej klasy optycznej lub monomer do wyświetlaczy LCD, oznacza to niespełnienie kluczowych specyfikacji: zawartość jonów metalu przekraczająca 50 ppb, kolor APHA przekraczający 5 Hazena lub niedopuszczalnie wysoka liczba cząstek. Wady te prowadzą do złomowania partii o dużej wartości i utraty kontraktów w branży, w której pojedyncza przesyłka niezgodna ze specyfikacją może przerwać łańcuch dostaw.

Nasz system oczyszczania eliminuje zanieczyszczenia dzięki mechanicznej konstrukcji folii i konstrukcji uwzględniającej materiały. Obrotowy zespół wycieraka tworzy na nagrzanej ściance ultracienki film, który zapewnia wystawienie substancji chemicznej na działanie dokładnej temperatury destylacji przez kilka sekund, radykalnie ograniczając wszelkie możliwości polimeryzacji termicznej lub ługowania metalu. Cały system jest wykonany ze stali nierdzewnej klasy reaktorowej 316L, polerowanej elektrolitycznie i pasywowanej w celu zapewnienia minimalnego wydzielania jonów oraz uszczelnionej pod osłoną obojętnego azotu, aby wykluczyć wilgoć i tlen. Ten ciągły proces w wysokiej próżni skutecznie usuwa resztkowe monomery z matrycy polimerowej do poziomu ppm lub odzyskuje drogie, wysokowrzące rozpuszczalniki, takie jak NMP i PGMEA, w niskich temperaturach, dostarczając spójny, ultraczysty produkt bez skoków cząstek między partiami i zmian kolorów charakterystycznych dla tradycyjnych fotosów.

• Elektronika-LCD/półprzewodnik:Końcowe usuwanie monomerów z reaktywnych oligomerów i oczyszczanie rozpuszczalników fotorezystu.

• Monomery optyczne:Oczyszczanie akrylanów i epoksydów o wysokim współczynniku załamania światła do wodnobiałej przejrzystości.

• Bateria litowo-jonowa:Ciągły odzysk i ponowne oczyszczanie wysokowrzącego NMP z linii powlekania elektrod.

• Specjalne półprodukty polimerowe:Odpędzanie nieprzereagowanych diizocyjanianów z prepolimerów w celu uzyskania stanu wolnego od ppm.

Dodatek chemiczny jest precyzyjnie dozowany do strefy odgazowania przed wejściem do głównego ogrzewanego korpusu. Pod głęboką próżnią obracające się wycieraczki dynamicznie rozprowadzają płyn w cienką, stale odnawianą warstwę, sprzyjając szybkiemu transferowi masy. Docelowa frakcja lekka (nieprzereagowany monomer lub rozpuszczalnik) odparowuje rzutowo i skrapla się w wewnętrznym skraplaczu, przepływając do uszczelnionego próżniowo odbiornika. Oczyszczony polimer bazowy lub ciężki rozpuszczalnik przemieszcza się osobno w dół ogrzanego korpusu, w sposób ciągły wychodząc przez pompę wyporową. Cały proces odbywa się w szczelnej, chemicznie obojętnej komorze, całkowicie izolującej produkt od zanieczyszczeń.

Podstawowa decyzja inżynieryjna dotyczy korozyjności chemicznej. W przypadku niekorozyjnych monomerów wystarczy elektropolerowanie SS316L. Jeśli obecne są śladowe ilości chlorków lub zanieczyszczeń kwasowych, niezbędny jest korpus parownika Hastelloy C-276, aby zapobiec wżerom i zanieczyszczeniu metalami. Dokładnie zdefiniuj obciążenie parą; rozpuszczalnik do usuwania NMP będzie dobierany głównie na podstawie utajonego ciepła parowania, podczas gdy środek uderzający monomer wymaga większej próżni, aby uniknąć polimeryzacji. Zawsze żądaj badania generacji cząstek podczas próby pilotażowej. Co najważniejsze, należy określić napęd magnetyczny pomp zasilających i pozostałościowych, aby wyeliminować ryzyko wycieku uszczelnienia mechanicznego i zanieczyszczenia smaru do strumienia wrażliwego na ppb.

1. P: Jakie gwarancje możesz zapewnić odnośnie poziomu zanieczyszczenia jonami metali?
   A:Zapewniamy protokół dotyczący kompatybilności materiałów i substancji ekstrahowalnych. W przypadku konkretnego produktu możemy przeprowadzić próbę pilotażową i przeanalizować powstały destylat za pomocą ICP-MS, aby poświadczyć, że wymywanie jonów metali z systemu utrzymuje się poniżej określonych progów, zazwyczaj jednocyfrowych ppb w przypadku metali katalitycznych.

2. P: Czy system może obsługiwać monomery podatne na samopolimeryzację?
   A:Tak. Krótki czas przebywania jest krytyczną zaletą. Stosujemy również wewnętrzne systemy dozowania inhibitorów i precyzyjną kontrolę temperatury folii, aby bezpiecznie przetwarzać monomery akrylowe i styrenowe bez tworzenia polimeru popcornu lub zanieczyszczania wewnętrznych powierzchni.

3. P: Jak zagwarantować, że system będzie wolny od wycieków i wilgoci w przypadku zastosowań bezwodnych?
   A:Cała płoza jest poddawana fabrycznemu testowi szczelności helem z szybkością < 1x10^-9 mbar l/s. Przeprowadzamy pełną próbę przebicia próżni i próbę nadciśnienia z użyciem azotu, dając Państwu certyfikat, że przed uruchomieniem instalacja jest sucha i szczelna.

4. P: A co z wydajnością odzysku drogiego rozpuszczalnika, takiego jak NMP?
   A:Nasze systemy ciągłego oczyszczania zaprojektowano z myślą o wydajności odzysku > 99%. Łącząc moduł Wiped Film z chłodzonym skraplaczem, minimalizujemy straty w linii próżniowej, zapewniając odzyskanie prawie całej objętości rozpuszczalnika w specyfikacji odpowiedniej do bezpośredniego ponownego użycia.

5. P: Czy konfiguracja przeciwwybuchowa jest standardem?
   A:Do każdego systemu obsługującego łatwopalne rozpuszczalniki (klasa I, dział 1) zapewniamy pakiet w pełni certyfikowany, zgodny z ATEX lub IECEx, obejmujący panele sterowania przepełnione/ciśnieniowe, czujniki iskrobezpieczne i komponenty z wyściółką przewodzącą, aby zapewnić bezpieczną pracę zgodną z ubezpieczeniem.