Системы очистки сверхвысокой чистоты SS316L высокопроизводительные для электронных химикатов

Эта специализированная система очистки разработана с учетом строгих требований тонкого химического производства и производства электроники, где загрязнение следами металлов и количество частиц не подлежат обсуждению. Благодаря интеграции высокопроизводительного пленочного испарителя с полностью закрытой петлей, способной работать с инертным газом, эта система обеспечивает непрерывное низкотемпературное удаление непрореагировавших мономеров, высококипящих растворителей и красящих веществ из специальных химикатов. Разработанный для очистки различных продуктов, от мономеров, отверждаемых УФ-излучением, и акрилатов оптического качества до восстановления NMP при производстве литиевых батарей, он обеспечивает исключительную эффективность разделения без кипения или загрязнения в бассейне. Система изготовлена ​​из электрополированной стали SS316L или смоченного сплава Hastelloy, что обеспечивает ионную чистоту, и является незаменимым инструментом для производителей химической продукции, которым необходимо модернизировать химические вещества технического класса до уровня чистоты, требуемого в полупроводниках и передовых материалах.

Производство химикатов сверхвысокой чистоты для электроники, современной оптики или медицинских полимеров предъявляет чрезвычайные требования к очистке. Стандартные дистилляционные колонны периодического действия приводят к загрязнению ионами металлов из-за длительного контакта с горячей нержавеющей сталью и низкоскоростных потоков, которые вызывают коррозию и выщелачивание. Кроме того, статическая жидкость внутри партии по-прежнему катализирует образование полимеризованного «попкорна» и гелевых тел, которые распадаются на продукт в виде видимых частиц и пятнышек. Для производителя, пытающегося произвести клей оптического класса или мономер для ЖК-дисплеев, это означает невыполнение ключевых требований: содержание ионов металлов превышает 50 частей на миллиард, цветность APHA превышает 5 Хазенов или неприемлемо высокое количество частиц. Эти дефекты приводят к списанию дорогостоящих партий и потере контрактов в отрасли, где одна несоответствующая спецификации партия может разорвать цепочку поставок.

Наша система очистки устраняет загрязнения благодаря механической конструкции пленки и конструкции с учетом материалов. Вращающийся скребковый узел создает ультратонкую пленку на нагретой стенке, что гарантирует, что химическое вещество подвергается воздействию точной температуры дистилляции всего за несколько секунд, что значительно снижает любую возможность термической полимеризации или выщелачивания металла. Вся система изготовлена ​​из нержавеющей стали реакторного качества 316L, электрополированной и пассивированной для минимального выделения ионов, а также герметизирована под инертной азотной подушкой для исключения влаги и кислорода. Этот непрерывный процесс в высоком вакууме эффективно удаляет остаточные мономеры из полимерной матрицы до уровня ppm или восстанавливает дорогие высококипящие растворители, такие как NMP и PGMEA, при низких температурах, обеспечивая стабильный, сверхчистый продукт без всплесков частиц от партии к партии и изменения цвета, характерного для традиционных перегонных кубов.

• Электроника-ЖК-дисплей/полупроводники:Окончательное отделение мономеров от реакционноспособных олигомеров и очистка растворителей фоторезиста.

• Оптические мономеры:Очистка акрилатов и эпоксидных смол с высоким показателем преломления до прозрачности, напоминающей воду.

• Литий-ионный аккумулятор:Непрерывное извлечение и доочистка высококипящего НМП из линий нанесения покрытия электродов.

• Специальные полимерные полупродукты:Удаление непрореагировавших диизоцианатов из форполимеров для достижения отсутствия ppm.

Химическое сырье точно дозируется в зону дегазации перед попаданием в основной нагреваемый корпус. Под глубоким вакуумом вращающиеся дворники динамически распределяют жидкость в тонкую, постоянно обновляющуюся пленку, способствуя быстрому массопереносу. Целевая легкая фракция (непрореагировавший мономер или растворитель) мгновенно испаряется и конденсируется на внутреннем конденсаторе, попадая в вакуумный приемник. Очищенный базовый полимер или тяжелый растворитель перемещается отдельно по нагретому корпусу, непрерывно выходя через объемный насос. Весь процесс происходит в герметичной, химически инертной камере, полностью изолирующей продукт от загрязнений.

Основное инженерное решение связано с химической коррозионной активностью. Для неагрессивных мономеров достаточно электрополированной стали SS316L. Если присутствуют следы хлоридов или кислотных примесей, корпус испарителя из Hastelloy C-276 необходим для предотвращения точечной коррозии и загрязнения металлом. Точно определите свою паровую нагрузку; размер растворителя для отгонки NMP будет зависеть в первую очередь от скрытой теплоты испарения, тогда как для нагнетателя мономера требуется более глубокий вакуум, чтобы избежать полимеризации. Всегда запрашивайте исследование образования частиц во время пилотного испытания. Крайне важно установить магнитный привод на насосах подачи и остатка, чтобы исключить риск утечки механического уплотнения и загрязнения смазочного материала в потоке, чувствительном к ppb.

1. Вопрос: Какие гарантии вы можете предоставить в отношении уровня загрязнения ионами металлов?
   А:Мы предоставляем протокол совместимости материалов и экстрагируемых веществ. Для конкретного продукта мы можем провести пилотное испытание и проанализировать полученный дистиллят с помощью ICP-MS, чтобы подтвердить, что выщелачивание ионов металлов из системы остается ниже установленных пороговых значений, обычно однозначных частей на миллиард для каталитических металлов.

2. Вопрос: Может ли система работать с мономерами, склонными к самополимеризации?
   А:Да. Короткое время пребывания является решающим преимуществом. Мы также используем внутренние системы дозирования ингибиторов и точный контроль температуры пленки для безопасной обработки акриловых и стирольных мономеров без образования полимера попкорна или загрязнения внутренних поверхностей.

3. Вопрос: Как вы гарантируете отсутствие утечек и влаги в системе при использовании безводных материалов?
   А:Вся установка проходит заводские испытания на утечку гелием со скоростью < 1x10^-9 мбар л/с. Мы проводим полное вакуумное испытание на пробой и испытание на положительное давление азотом, предоставляя вам подтверждение того, что узел сухой и герметичный перед запуском.

4. Вопрос: А как насчет выхода такого дорогостоящего растворителя, как NMP?
   А:Наши системы непрерывной очистки рассчитаны на эффективность восстановления >99%. Соединяя установку Wiped Film с охлаждаемым конденсатором, мы минимизируем потери в вакуумной линии, гарантируя, что почти весь объем растворителя будет восстановлен в соответствии со спецификациями, подходящими для прямого повторного использования.

5. Вопрос: Является ли взрывозащищенная конфигурация стандартной?
   А:Для любой системы, работающей с легковоспламеняющимися растворителями (Класс I, Раздел 1), мы предоставляем полностью сертифицированный пакет, соответствующий требованиям ATEX или IECEx, включая панели управления с продувкой/под давлением, искробезопасные датчики и компоненты с проводящей облицовкой для обеспечения безопасной работы, соответствующей требованиям страхования.