超高純度浄化システム SS316L 電子化学品のための高性能

この専用浄化システムは 繊細な化学品や電子機器の製造の厳格な要求に応じ 設計されています 繊細な金属の汚染や 微粒子の数は 交渉の余地がありません完全に閉ざされた高性能のWipe Film Evaporatorを統合するこのシステムは,特殊化学物質から反応していないモノマー,高沸点溶媒,色体の一連の低温剥離を実現します.紫外線固化可能なモノマーと光学グレードのアクリラットからリチウム電池生産におけるNMP回収までの製品浄化のために設計された電気磨きされたSS316Lまたは濡れたハステロイから作られ,離子純度を保証します. and is the definitive tool for chemical manufacturers needing to upgrade technical-grade chemicals to the demanding parts-per-billion purity levels required by semiconductor and advanced material applications.

電子機器,先進光学,または医療用ポリマーのための超高純度化学物質の製造は 浄化に極端な要求をします標準のバッチ蒸留列は,熱い不?? 鋼と長時間接触し,腐食と溶解を可能にする低速流量により金属イオン汚染を導入するさらに,バッチ内の静的液体池は,目に見える粒子や斑点として製品に分解するポリメリ化された"ポップコーン"とゲル体の形成を催促します.光学級の接着剤やLCDモノメアを製造しようとする製造者金属イオン含有量が50ppbを超えたり,APHA色が5Hazenを超えたり,または許容できないほど高い粒子の数値が欠けていることを意味します.これらの欠陥は,単一のスペック外の出荷がサプライチェーンを断つ可能性がある業界で,高価値のバッチを廃棄し,契約を喪失させる.

私たちの浄化システムは 機械的なフィルム設計と 材料に配慮した構造により 汚染を排除します化学物質が数秒間 精密な蒸留温度にさらされることを保証しますシステム全体が 316L 原子炉級のステンレス鋼で構成されています.電極で磨き,最小限のイオン流出のために消化湿気と酸素を除外するために,無活性窒素の毛布の下に密閉.高真空処理により,ポリマーマトリックスから残留モノメールをppmレベルまで効果的に除去するか,低温でNMPやPGMEAのような高沸点溶媒を回収します.恒常的で超清潔な製品で 伝統的なスタイリングに特有の バッチ対バッチの粒子のピークや色差がないのです

• 電子・LCD/半導体:反応性オリゴマーの最終モノメア剥離と光抵抗溶媒の浄化.

• オプティカルモノマー:高屈光率のアクリラットとエポキシを水白の透明度まで浄化する.

• リチウムイオン電池:電極塗装ラインからの高沸点NMPの連続回収と再浄化

• 特殊ポリマー中介物質:前ポリマーから反応していない二酸化亜酸塩を剥離し,ppmフリー状態を達成する.

熱された主体に入れる前に,化学料は精密に脱ガスゾーンに測定されます. 深い真空下で,回転するワイパーが動的に液体を薄い,絶えず再生されるフィルム標的光分 (反応していないモノメアまたは溶媒) は内部冷凝器でフラッシュ蒸発し凝縮し,真空密封式受容器に流入します.浄化された基礎ポリマーまたは重溶媒は,加熱体から別々に移動しますこのプロセスは,密閉された,化学的に惰性な室内で行われ,汚染物質から完全に製品を隔離します.

主要なエンジニアリングの決定は化学腐食性を取り巻く. 腐食性のないモノマーの場合は,SS316L電極化が十分である. 塩化物または酸性不純物が存在する場合,ハステロイC-276蒸発機体は,穴と金属汚染を防ぐために不可欠です蒸気負荷を正確に定義する.NMPのための溶媒剥離機は主に蒸発の潜在熱に基づいてサイズされます.一方,モノメアストライカーはポリメリゼーションを避けるためにより深い真空を必要とします.パイロット試験中に常に粒子生成研究を要求する.重要なことは, ppb に敏感な流れに機械的なシール漏れと潤滑剤汚染のリスクを排除するために,フィードと残留ポンプの磁気駆動を指定することです.

1. Q: 金属イオン汚染レベルについて どんな保証を?
   A: その通り材料の互換性や 抽出可能なプロトコルを 提供しますICP-MSで試行試験を行い 蒸留物を分析して システムから金属イオンが 溶け出ていることが 指定された値を下回っていることを確認できます触媒金属では通常1桁の ppbです.

2. Q: システムでは自己ポリマー化傾向のあるモノメールを処理できますか?
   A: その通り短期滞在が 重要な利点だ We also incorporate internal inhibitor dosing systems and precise film temperature control to safely process acrylic and styrenic monomers without forming popcorn polymer or fouling the internal surfaces.

3. Q: 無水性アプリケーションでは システムが漏れや湿度がないことをどのように保証しますか?
   A: その通り全スキッドは,工場ヘリウム漏れを試し,速度 < 1x10^-9 mbar l/s. 我々は,完全な真空分解試験と窒素で正圧試験を実施,装置が起動前に乾燥し漏れを防いでいることを証明する.

4. NMPのような 高価な溶媒の回収率は?
   A: その通り私たちの連続浄化システムは 99%以上の回収効率を 設計されています. 拭いたフィルムユニットと冷却コンデンサを組み合わせることで,私たちは真空線への損失を最小限に抑えます.溶媒のほぼ全容量が直接再利用に適した仕様で回収されることを確保する..

5. Q: 防爆コンフィギュレーションは標準ですか?
   A: その通り燃やす溶媒を処理するシステム (クラスI,Div 1) には,完全に認証された ATEXまたはIECEx対応パッケージを用意します. 浄化/圧縮制御パネル,本質的に安全なセンサー,安全性を確保するために保険に合致する操作です